MINATEC

 

Cadre du stage :

 

Cadre du stage :

Le Département d'Optronique du LETI mène des travaux de recherche et de développement sur des
imageurs infrarouge à base de matrices de photodiodes réalisées sur le semi-conducteur composé CdHgTe.
La prochaine génération de détecteur infrarouge, intégrera de nouvelles fonctionnalités, telles la détection de
plusieurs longueurs d’onde (multispectral) ou l'utilisation d'effet de gain, dans des structures à avalanche
(APD). Ces développements nécessitent une bonne compréhension et un bon contrôle des procédés
technologiques. La gravure profonde (réalisation de mésas par exemple) est une des étapes délicates
requises pour les futurs dispositifs, et son contrôle, en terme de dimensions (largeur, profondeur, aspect et
pente des flancs) et d'état de surface (composition, rugosité) dépend directement des paramètres du
procédé de gravure utilisé. L'objet du stage sera d'effectuer une étude paramétrique visant à analyser
l'influence de paramètres clés du procédé (gaz, puissance, teméprature…) sur les fonds et les flancs de
motifs gravés. .

Travail demandé :

Le stagiaire devra réaliser des expériences sur une machine de gravure assistée plasma, de type ICP
(Inductively Coupled Plasma). Il travaillera sur des échantillons de matériau nus, et sur des échantillons
ayant subi une étape de création de motifs de masquage (notamment des tranchées de largeur et période
variable). Il devra donc apprendre à utiliser une partie des équipements de la salle blanche (insolateurs UV,
machine de dépôt et de gravure de couches minces) pour fabriquer les échantillons à analyser.
La caractérisation des échantillons se fera par différents outils disponibles au sein du laboratoire :
- microscopie optique et MEB pour observer l'aspect de surface et des flancs gravés.
- profilomètre mécanique pour mesurer des épaisseurs gravées.
Il observera et essaiera d'analyser (en regard de la littérature existante) les phénomènes de variation de
résultats de gravure induites par les variations de facteur d'aspect des motifs (ou ARDE, Aspect Ratio
Dependant Etching).
Ces analyses seront complétées par des analyses faites en collaboration avec la plate-forme de
caractérisation du LETI : mesure de rugosité par AFM, et analyse de la composition et des liaisons
chimiques en surface par analyse XPS (Spectroscopie de photo-électrons X) et Auger.
Ce stage s’adresse à un étudiant ayant de bonnes connaissances en physique des semi-conducteurs et un
goût pour l'expérimentation, ainsi que des connaissances générales sur les procédés de fabrication en salle
blanche, et plus particulièrement sur les plasmas froids pour la microélectronique.